爆炸性環(huán)境用電設(shè)備分為哪幾類(lèi)呢?根據(jù)現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)可分為I類(lèi)、Ⅱ類(lèi)和Ⅲ類(lèi)

　　各自的應(yīng)用范圍有哪些你知道嗎?接下來(lái)我們一起看一下吧

　　I類(lèi)電氣設(shè)備

　　適用于煤礦瓦斯氣體環(huán)境

　　用于煤礦的電氣設(shè)備，當(dāng)其環(huán)境中除甲烷外還可能含有其他爆炸性氣體時(shí)，應(yīng)按照Ⅰ類(lèi)和Ⅱ類(lèi)相應(yīng)可燃性氣體的要求進(jìn)行制造和試驗(yàn)。該類(lèi)電氣設(shè)備應(yīng)有相應(yīng)的標(biāo)志(例如："Ex dⅠ/ⅡB T3"或 "Ex dⅠ/Ⅱ(NH3))"。

　　注：Ⅰ類(lèi)防爆型式應(yīng)考慮瓦斯和煤粉的點(diǎn)燃以及地下用設(shè)備增加的物理保護(hù)措施。

　?、螂姎庠O(shè)備

　　適用范圍

　　適用于除煤礦瓦斯氣體之外的其他爆炸性氣體環(huán)境。

　　再分類(lèi)

　?、蝾?lèi)防爆電氣設(shè)備按照其擬使用的爆炸性環(huán)境的種類(lèi)可進(jìn)一步再分類(lèi)。Ⅱ類(lèi)電氣設(shè)備的再分類(lèi)，標(biāo)志分別為A、B、C：

　　(1)ⅡA 類(lèi)：代表性氣體是丙烷;

　　(2)ⅡB 類(lèi)：代表性氣體是乙烯;

　　(3)ⅡC 類(lèi)：代表性氣體是氫氣。

　　以上分類(lèi)的依據(jù)，對(duì)于隔爆外殼電氣設(shè)備是最大試驗(yàn)安全間隙(MESG)，對(duì)于本質(zhì)安全型電氣設(shè)備是最小點(diǎn)燃電流比(MICR)。

　　IIA 1.14>MESG≥0.9 1.0>MICR>0.8

　　IIB 0.9>MESG>0.5 0.8≥MICR≥0.45

　　IIC 0.5≥MESG 0.45>MICR

　　最大試驗(yàn)安全間隙(MESG)——指在規(guī)定的試驗(yàn)條件下，一個(gè)殼體充有一定濃度的被試驗(yàn)氣體與空氣的混合物，點(diǎn)燃后，通過(guò)25mm長(zhǎng)的接合面均不能引燃?xì)んw爆炸性氣體混合物的外殼接合面之間的最大間隙。

　　最小點(diǎn)燃電流(MIC)——在規(guī)定的試驗(yàn)裝置上，用直流24V、95mH電感的火花進(jìn)行3000次點(diǎn)燃試驗(yàn)時(shí)，能夠點(diǎn)燃可燃性氣體混合物的最小電流。此電流降低5%即不能點(diǎn)燃。

　　最小點(diǎn)燃電流比(MICR)——各種可燃性氣體(或蒸氣)與空氣的混合物的最小點(diǎn)燃電流對(duì)甲烷與空氣混合物的最小點(diǎn)燃電流的比值。

　　注：以上分類(lèi)的依據(jù)，對(duì)于隔爆外殼電氣設(shè)備是最大試驗(yàn)安全間隙(MESG)，對(duì)于本質(zhì)安全型電氣設(shè)備是最小點(diǎn)燃電流比(MICR)。

　　標(biāo)志ⅡB的設(shè)備可適用千ⅡA設(shè)備的使用條件，標(biāo)志ⅡC類(lèi)的設(shè)備可適用于ⅡA和ⅡB類(lèi)設(shè)備的使用條件。

　?、箢?lèi)電氣設(shè)備

　　適用范圍

　　適用于除煤礦以外的爆炸性粉塵環(huán)境。

　　再分類(lèi)

　　Ⅲ類(lèi)電氣設(shè)備按照其擬使用的爆炸性粉塵環(huán)境的特性可進(jìn)一步再分類(lèi)。Ⅲ類(lèi)電氣設(shè)備的再分類(lèi)：

　　(1)ⅢA類(lèi)：可燃性飛絮;(2)ⅢB類(lèi)：非導(dǎo)電性粉塵;(3)ⅢC類(lèi)：導(dǎo)電性粉塵。注：標(biāo)志ⅢB的設(shè)備可適用于ⅢA設(shè)備的使用條件，標(biāo)志ⅢC類(lèi)的設(shè)備可適用于ⅢA或ⅢB類(lèi)設(shè)備的使用條件。

　　特定爆炸性環(huán)境用設(shè)備

防爆電氣設(shè)備可按某一特定的爆炸性環(huán)境進(jìn)行試驗(yàn)，在這種情況下相關(guān)信息應(yīng)記錄在防爆合格證中并在電氣設(shè)備上進(jìn)行相應(yīng)地標(biāo)志。

　　注：以上部分內(nèi)容摘自GB/T3836.1-2010，在中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)2021年第12號(hào)公告中，涉及GB/T3836.1-2021在內(nèi)的新一批國(guó)家防爆標(biāo)準(zhǔn)將于明年實(shí)施。